Выполним-студенческую-работу

Диплом Влияние динамических пауз на уровень развития памяти школьников с интеллектуальными нарушениями. Учебная работа № 122537

Количество страниц учебной работы: 55

Содержание:
«ВВЕДЕНИЕ 3
ГЛАВА 1 ПСИХОЛОГО-ПЕДАГОГИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ РАЗВИТИЯ ПАМЯТИ ШКОЛЬНИКОВ С ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНЫМИ НАРУШЕНИЯМИ 6
1.1 Психологические особенности школьников с интеллектуальными нарушениями 6
1.2. Особенности памяти школьников с интеллектуальными нарушениями 15
ГЛАВА 2 ИССЛЕДОВАНИЕ ВЛИЯНИЯ ДИНАМИЧЕСКИХ ПАУЗ НА УРОВЕНЬ РАЗВИТИЯ ПАМЯТИ ШКОЛЬНИКОВ С ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНЫМИ НАРУШЕНИЯМИ 27
2.1 Констатирующий этап 27
2.2. Формирующий этап 35
2.3. Контрольный этап 41
ЗАКЛЮЧЕНИЕ 49
СПИСОК ИСПОЛЬЗОВАННЫХ ИСТОЧНИКОВ 51
»

Стоимость данной учебной работы: 3900 руб.

 

    Укажите Ваш e-mail (обязательно)! ПРОВЕРЯЙТЕ пожалуйста правильность написания своего адреса!

    Укажите № работы и вариант

    Соглашение * (обязательно) Федеральный закон ФЗ-152 от 07.02.2017 N 13-ФЗ
    Я ознакомился с Пользовательским соглашением и даю согласие на обработку своих персональных данных.


    Учебная работа № 122537. Диплом Влияние динамических пауз на уровень развития памяти школьников с интеллектуальными нарушениями

    Выдержка из похожей работы

    …ти. К этим материалам, прежде всего, относятся
    различные виды технической керамики, включая стеклокристаллическую керамику —
    ситаллы [1]. Расширяются области использования керамических материалов,
    увеличиваются капиталовложения в научные разработки, касающиеся усовершенствования
    технологий их производства. При этом во главу угла ставится задача снижения
    себестоимости выпускаемой продукции при обеспечении ее высоких эксплуатационных
    характеристик.
    Однако рост применения ХНМ в качестве конструкционных
    материалов сдерживается по причине трудностей, возникающих при обеспечении
    высокой точности и качества поверхности изделий при механической обработке,
    которая, в основном, осуществляется алмазными абразивными инструментами. Это
    связано, с одной стороны, с высокими показателями прочности и повышенной
    хрупкостью материалов рассматриваемого класса, с другой стороны — с
    неэффективными технологическими процессами обработки, причиной которых в
    значительной мере является недостаточный объем знаний о механизмах формирования
    качественного поверхностного слоя изделий при алмазном шлифовании. Установлено,
    что даже мягкие режимы шлифования приводят к созданию дефектного слоя — сетки
    микротрещин, которые расположены на поверхности обрабатываемых материалов и
    распространяются в глубину на 200 — 700 мкм для ситаллов и до 50 мкм для
    конструкционной керамики [2]. Все это является…

     

    Вам может также понравиться...